不锈钢研磨抛光加工-研磨抛光加工-精富自动化设备厂(查看)

研磨速度通常为10m/min——240m/min。平面研磨精度要求比较高的工件，研磨速度一般不**过30m/min。击钉密封面的研磨速度与密封面的材料有关，铜及铸铁密封面的研磨速度为10m/min——45m/min；淬硬钢及硬质合金密封面为25m/min——80m/min；奥氏体不锈钢密封面为10m/min——25m/min。

平面研磨效率随研磨压力的增大而提高，研磨压力不能过大一般为0.01MPa——0.4MPa。

研磨铸铁、铜及奥氏体不锈钢材料的密封面时研磨压力为0.1MPa——0.3MPa；淬硬钢和硬质合金密封面为0.15MPa——0.4MPa。粗研时取较大值，精研时取较小值。

平面研磨工程中，装有击钉端面的夹具和研磨盘表面很好的贴合在一起，滚筒研磨抛光加工，研具沿贴合表面作复杂的平面研磨运动。研具和密封圈表面间放有研磨液，当研具与密封圈表面相对运动时（公转、自转），研磨液中的部分磨粒在研具与密封圈表面间滑动或者滚动，切去密封圈表面上很薄的一层平整度不平整的表皮。密封圈表面上表面上凸峰部分首先被磨去，然后渐渐的达到要求的几何形状。

平面研磨过程

装有击钉端面的夹具与研磨盘表面很好的贴合在一起，夹具沿贴合表面研磨盘作自转的研磨运动。装有击钉端面的夹具和研磨盘表面间放有研磨液，当夹具与研磨盘表面作相对公转自转的运动时，不锈钢研磨抛光加工厂，研磨液中的部分磨粒在夹具和研磨盘表面间滑动或者滚动，切去密封圈表面上很薄的一层金属。密封圈表面上表面上凸峰部分首先被磨去，然后渐渐的达到要求的几何形状。

平面研磨运动

击钉端面的夹具与研磨盘相对运动时，击钉端面表面上每一点对研磨盘的相对滑动路程都应该相同。并且，研磨抛光加工，相对运动的方向应不断变更。运动方向的不断变化使每一磨粒不会在密封圈表面上重复自己运动的轨迹，不锈钢研磨抛光加工，以免造成明显的划痕而增击钉端面表面的粗糙度。此外，运动方向的不断变化还能使研磨液分布得比较均匀，从而较均匀的切去击钉端面表面的不平整表皮。